[实用新型]一种可有效祛除H-FK61材料上细划痕的抛光磨具有效

专利信息
申请号: 202020473746.5 申请日: 2020-04-03
公开(公告)号: CN213196971U 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 章涛;尹园圆;余正红;程珂 申请(专利权)人: 上海光继光电科技有限公司
主分类号: B24B27/033 分类号: B24B27/033;B24B47/22;B24B47/12;B24B41/00
代理公司: 北京化育知识产权代理有限公司 11833 代理人: 尹均利
地址: 201500 上海市金山区*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种可有效祛除H‑FK61材料上细划痕的抛光磨具,包括第一支撑板,所述第一支撑板的顶部固定连接有工作台,所述第一支撑板的顶部固定连接有第一底座,所述第一底座的顶部固定连接有支柱,所述第一底座的顶部固定连接有顶板,所述顶板的底部固定连接有气压缸,所述气压缸的输出端固定连接有气压杆,所述气压杆的一端固定连接有第二支撑板,所述第二支撑板的底部固定连接有电机盒。该可有效祛除H‑FK61材料上细划痕的抛光磨具,能够达到便于调节高度的目的,解决了一般抛光磨具调节高度困难的问题,使得工作人员能够根据H‑FK61材料的厚度调节高度,从而提升了工作人员的工作效率,从而为工作人员的使用提供了便利。
搜索关键词: 一种 有效 祛除 fk61 材料 划痕 抛光 磨具
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