[实用新型]一种链式刻蚀设备可微调刻蚀槽辊轮水平装置有效
申请号: | 202020491688.9 | 申请日: | 2020-04-07 |
公开(公告)号: | CN211578778U | 公开(公告)日: | 2020-09-25 |
发明(设计)人: | 李鸿涛;彭平;杨雄磊;陈庆发;夏忠高;李旭杰 | 申请(专利权)人: | 平煤隆基新能源科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67 |
代理公司: | 郑州隆盛专利代理事务所(普通合伙) 41143 | 代理人: | 王年年 |
地址: | 461000 河南省许*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本实用新型主要涉及光伏设备制造技术领域,具体的涉及一种链式刻蚀设备可微调刻蚀槽辊轮水平装置,包括辊轮,辊轮上方设置有调节机构,调节机构包括支架,支架底部设置有引脚,引脚处设置有定位孔,支架的上部设置有用于纵向调节辊轮的调节装置,调节装置包括限位块,限位块中部穿设有垂直设置的螺纹杆,螺纹杆上部设置有旋紧把手,螺纹杆下端设置有安装板,安装板上表面设置有用于连接螺纹杆的连接座,安装板上开设有多个安装孔,安装板下方设置有用于抓取辊轮的卡夹,限位块侧壁上设置有辅助定位装置,通过在辊轮上方安装调节机构,在辊轮发生偏移时,通过旋紧把手来调节螺纹杆的高度,进而带动辊轮的高度,最终实现辊轮始终保持在水平位置。 | ||
搜索关键词: | 一种 链式 刻蚀 设备 微调 槽辊轮 水平 装置 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的