[实用新型]备膜装置和金属线膜加工设备有效
申请号: | 202020508018.3 | 申请日: | 2020-04-09 |
公开(公告)号: | CN211789065U | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
发明(设计)人: | 杨春明;连建军 | 申请(专利权)人: | 苏州迈展自动化科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/677 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 唐清凯 |
地址: | 215000 江苏省苏州市工业园区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种备膜装置,包括:控制模块;膜片供给机构,与所述控制模块电连接,所述膜片供给机构用于加工膜片并将所述膜片传输到预设工位;所述膜片供给机构至少设有两个,各所述膜片供给机构依次向所述预设工位传输膜片。上述备膜装置,具有两个以上的膜片供给机构,在向预设工位提供膜片时,主控模块控制多个膜片供给机构依次向预设工位传输膜片,在预设工位接收到一片膜片后,下一膜片供给机构开始或已经朝预设工位传输膜片,多个膜片供给机构向预设工位传输膜片,减小了膜片输送到预设工位上的间隔,大大提升了膜片传输的效率,从而提升金属线膜的生产效率。 | ||
搜索关键词: | 装置 金属线 加工 设备 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的