[实用新型]一种晶圆清洁设备有效

专利信息
申请号: 202020515571.X 申请日: 2020-04-10
公开(公告)号: CN212041850U 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 蔡丹纯;陈天虎;郑俊;李宇周 申请(专利权)人: 东莞高伟光学电子有限公司
主分类号: B08B7/00 分类号: B08B7/00;B08B13/00;H01L21/67
代理公司: 东莞市说文知识产权代理事务所(普通合伙) 44330 代理人: 程修华
地址: 523000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及一种晶圆清洁设备,包括机架和安装在机架上方的晶圆传送装置、第一支撑定位装置、第二支撑定位装置、晶圆检测装置、晶圆清洁装置,所述晶圆清洁装置包括清洁支撑架、X轴移动模组、Y轴移动模组、移动板、升降气缸、棒安装块和粘尘棒,X轴移动模组驱动Y轴移动模组沿X轴左右移动,Y轴移动模组驱动移动板沿Y轴前后移动,移动板侧方安装升降气缸,升降气缸驱动棒安装块上下升降,棒安装块底部安装粘尘棒,与现有技术相比,晶圆清洁装置采用粘尘棒去除晶圆表面的灰尘异物,粘尘棒不会损伤污染晶圆,减少等离子水的使用和维护检修成本,不会出现等离子水污染批量晶圆的现象,提高产品良率,满足生产需求。
搜索关键词: 一种 清洁 设备
【主权项】:
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