[实用新型]投影机光机光学调试平台有效
申请号: | 202020522826.5 | 申请日: | 2020-04-10 |
公开(公告)号: | CN211478865U | 公开(公告)日: | 2020-09-11 |
发明(设计)人: | 张长春 | 申请(专利权)人: | 中航国画(上海)激光显示科技有限公司 |
主分类号: | G03B43/00 | 分类号: | G03B43/00;G03B21/16 |
代理公司: | 上海世圆知识产权代理有限公司 31320 | 代理人: | 顾俊超 |
地址: | 200436 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开投影机光机光学调试平台,包含有,箱型底座,其由底座顶壁、底座底壁、底座前壁、底座后壁及底座侧壁组成;光机支撑平台,其形成于所述底座顶壁上,所述光机支撑平台自所述底座顶壁的顶面始向上延伸,所述光机支撑平台的顶面高于所述底座顶壁的顶面,当光机本体置于所述光机支撑平台上,所述光机本体被整体垫高;所述底座顶壁的顶面上竖立有顶壁左板及顶壁右板,所述顶壁左板及所述顶壁右板上分别固定有光机散热风扇,所述光机散热风扇用于散热所述光机本体。本实用新型的有益效果在于:利用光机支撑平台,光机本体整体被抬高,方便进行光机本体的成像,亮度,色温,焦距的测试与调节;设置光机风扇,提高对光机本体的散热。 | ||
搜索关键词: | 投影机 光学 调试 平台 | ||
【主权项】:
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