[实用新型]薄壁与作用体的间隙弥补结构、锁紧结构及装配结构有效
申请号: | 202020528421.2 | 申请日: | 2020-04-10 |
公开(公告)号: | CN212055403U | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 吴凤鼎 | 申请(专利权)人: | 成都雷电微力科技股份有限公司 |
主分类号: | F16B7/18 | 分类号: | F16B7/18 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 封浪 |
地址: | 610041 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种薄壁与作用体的间隙弥补结构、锁紧结构及装配结构,包括薄壁和作用体,薄壁上开设有第一螺纹孔,在作用体上相对应的位置,开设有第二螺纹孔;装配结构还包括锁紧螺钉和间隙弥补结构;间隙弥补结构的外螺纹直径与薄壁上的第一螺纹孔相匹配,间隙弥补结构内设计有螺钉沉孔,螺钉沉孔与锁紧螺钉相匹配;间隙弥补结构外螺纹旋入第一螺纹孔,且端部与作用体相接触,锁紧螺钉与开设于作用体上的第二螺纹孔相匹配,锁紧螺钉穿过间隙弥补结构的螺钉沉孔并旋入第二螺纹孔。本设计的结构可以对薄壁与作用体间间隙进行弥补,防止薄壁在装配时发生形变。本设计的结构便于批量化生产,应用时便于操作,对于作用体的调节精度高。 | ||
搜索关键词: | 薄壁 作用 间隙 弥补 结构 装配 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都雷电微力科技股份有限公司,未经成都雷电微力科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202020528421.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。