[实用新型]一种空间分布光学测量装置有效

专利信息
申请号: 202020532220.X 申请日: 2020-04-13
公开(公告)号: CN211783857U 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 潘建根;李倩;沈思月 申请(专利权)人: 远方谱色科技有限公司
主分类号: G01J1/42 分类号: G01J1/42;G01J1/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 311200 浙江省杭州市萧山*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开一种空间分布光学测量装置,包括外罩,样品台,待测发光源以及成像测量装置,其中所述外罩的内表面设有漫反射涂层;所述待测发光源设置在所述样品台上;所述成像测量装置的视场覆盖所述待测发光源投射到所述外罩内表面的像。本实用新型通过设置内表面设有漫反射涂层的外罩,去接收待测发光源的光斑,然通过成像测量装置直接对光斑在外罩内表面的像进行拍摄,避免使用匀光膜,防止横向散射对测量结果的影响,从而到达较少测量误差提高测量精度的技术效果。
搜索关键词: 一种 空间 分布 光学 测量 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于远方谱色科技有限公司,未经远方谱色科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202020532220.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top