[实用新型]一种用于化学机械抛光的保持环和承载头有效
| 申请号： | 202020569061.0 | 申请日： | 2020-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN211163460U | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 孟松林;赵德文;王宇 | 申请（专利权）人： | 华海清科股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/32 | 分类号： | B24B37/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300350 天津市津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于化学机械抛光的保持环和承载头，所述保持环由环形部构成，所述环形部由金属部和非金属部组成，所述非金属部模制形成于金属部的外周侧；所述环形部包括顶面、底面、外侧面和内侧面，所述顶面与承载头固定连接，所述底面与抛光表面抵接，所述外侧面设置于环形部的外侧并连接顶面与底面，所述内侧面设置于环形部的内侧并连接顶面与底面，所述底面设置有连通内侧面和外侧面的供液槽；所述顶面设置有螺纹孔，所述螺纹孔位于所述供液槽的竖直上方。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械抛光 保持 承载 | ||
【主权项】：
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