[实用新型]高可靠性垂直功率MOS器件有效
申请号: | 202020573471.2 | 申请日: | 2020-04-17 |
公开(公告)号: | CN212161821U | 公开(公告)日: | 2020-12-15 |
发明(设计)人: | 陈译;陆佳顺;杨洁雯 | 申请(专利权)人: | 苏州硅能半导体科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/423;H01L29/06 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 马明渡;王健 |
地址: | 215123 江苏省苏州市苏州工业*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开一种高可靠性垂直功率MOS器件,包括:位于硅片下表面的重掺杂N型漏极区和位于硅片上表面的中掺杂P型基极区,所述重掺杂N型漏极区和中掺杂P型基极区之间具有一轻掺杂N型漂移区,一位于中掺杂P型基极区中沟槽延伸至轻掺杂N型漂移区下;沟槽内下部具有第二N型源极部,此沟槽内上部具有栅极部,所述第二N型源极部和栅极部与沟槽之间填充有第一氧化硅层,所述第二N型源极部和栅极部之间通过第二氧化硅层隔离,所述沟槽底部具有一位于轻掺杂N型漂移区内的中掺杂N型部。本发明高可靠性垂直功率MOS器件可提高轻掺杂N型漂移区的掺杂浓度,增加耐压的情况下,将关断时将导通电阻降低,且改善了器件可靠性。 | ||
搜索关键词: | 可靠性 垂直 功率 mos 器件 | ||
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