[实用新型]一种锗二极管加工用锗片清洗装置有效
| 申请号： | 202020586407.8 | 申请日： | 2020-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN212216429U | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | 张伟;杨延青;黄敏;赵翠华;王晓明 | 申请（专利权）人： | 济南半一电子有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/10 | 分类号： | B08B3/10;B08B3/04;B08B13/00;F26B21/00 |
| 代理公司： | 济南旌励知识产权代理事务所(普通合伙) 31310 | 代理人： | 单玉刚 |
| 地址： | 250000 山东省济南市*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种锗二极管加工用锗片清洗装置，包括箱体，箱体顶部开口，箱体内部固定安装隔板，箱体底面固定安装电机，隔板的顶面开设第一通孔，电机输出轴穿过第一通孔，电机输出轴外周通过密封轴承连接第一通孔内壁，电机的输出轴上端固定连接转盘的底面，转盘的上方设有接触板，转盘顶面与接触板的顶面通过数根弹簧连接。本装置通过带动盛放装置旋转的方法来加快锗片与清洗液之间的接触，使得清洗效果更好，并且清洗速度更快，本装置通过离心与向箱体内通入热气的方法来对锗片进行烘干，烘干效果好，烘干速度更快。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 二极管 工用 清洗 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于济南半一电子有限公司，未经济南半一电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202020586407.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
