[实用新型]一种新型曝光系统有效
| 申请号： | 202020609709.2 | 申请日： | 2020-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN212160347U | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 李凡月 | 申请（专利权）人： | 拾斛科技（南京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 211500 江苏省南京市江北*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种新型曝光系统，包括：第一晶圆，第一晶圆吸盘，第二晶圆，第二晶圆吸盘，分布式照明光源，长度测量机构，间隔球，晶圆对准机构，驱动机构，控制器，计算机。通过晶圆对准机构精密调节第一晶圆与第二晶圆之间的距离，通过分布式照明光源，每一次只对处在预设景深范围内的光刻胶区域利用子照明区域曝光，可以实现多次曝光，生产效率得到了极大提升。通过长度计的读数，可以精确控制第一晶圆与第二晶圆之间的距离，提高了晶圆对准精度和曝光分辨率，可适用于制造尺寸更小的半导体组件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 曝光 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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