[实用新型]一种用于成像的光学装置有效

专利信息
申请号: 202020697465.8 申请日: 2020-04-29
公开(公告)号: CN212181239U 公开(公告)日: 2020-12-18
发明(设计)人: 范超;韩东成 申请(专利权)人: 安徽省东超科技有限公司
主分类号: G03B21/28 分类号: G03B21/28;G03B21/14
代理公司: 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 代理人: 贾玉姣
地址: 230088 安徽省合肥市高新区望江西路508*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开了一种用于成像的光学装置,包括:半反射透镜、逆反射组件和投影仪,所述逆反射组件与所述半反射透镜倾斜设置,所述投影仪产生的光线照射在所述半反射透镜上,所述投影仪产生的光线经过所述半反射透镜的反射作用或透射作用以及所述逆反射组件的逆反射作用在所述半反射透镜背对所述投影仪的一侧汇聚形成实像。根据本实用新型的用于成像的光学装置,采用投影仪作为显示光源,与现有技术中采用显示屏作为成像光源的成像装置相比,不仅可以通过调整投影仪的光学参数提升光学装置所汇聚成像的亮度,而且可以提升所形成实现的质量,有利于提升实像的清晰度。
搜索关键词: 一种 用于 成像 光学 装置
【主权项】:
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