[实用新型]一种锗基底8-12um红外窗口片有效

专利信息
申请号: 202020703766.7 申请日: 2020-04-30
公开(公告)号: CN212181064U 公开(公告)日: 2020-12-18
发明(设计)人: 姜海;侯强;刘瑞斌 申请(专利权)人: 沈阳北理高科技有限公司
主分类号: G02B1/113 分类号: G02B1/113;C03C17/00
代理公司: 沈阳智龙专利事务所(普通合伙) 21115 代理人: 张君男;宋铁军
地址: 110044 辽宁省沈*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型属于光学薄膜领域,具体涉及一种锗基底8‑12um红外窗口片。窗口片以单晶锗为基底,基底的两侧均镀有单层的增透膜结构,两侧膜结构的入射角均定义为0°±10°。该窗口片可应用到8‑12um红外探测系统中,也可以用到夜视仪中,因其镀膜设计简单,镀膜材料选择普通,膜层牢固度高等优点,大大降低了窗口片制作的周期与成本。
搜索关键词: 一种 基底 12 um 红外 窗口
【主权项】:
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