[实用新型]一种对位模块、对位设备及薄膜沉积生产线有效

专利信息
申请号: 202020759745.7 申请日: 2020-05-09
公开(公告)号: CN213624342U 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 黄稳;武启飞;廖良生;虞强龙;张敬娣;高永喜;李涛;朱宏伟;陈奇;李鹏飞 申请(专利权)人: 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/54;C23C14/24;C23C14/34
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 215000 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种对位模块、对位设备及薄膜沉积生产线。对位模块包括掩膜架,掩膜架被配置为承载掩膜板,掩膜架通过定位结构定位于外部设备,并与外部设备可拆卸连接;压板组件,活动设置于掩膜架一侧,压板组件能够压紧对位后的基片与掩膜板;磁吸组件,磁吸组件包括分别设置于掩膜架上的第一磁吸件,以及设置于压板组件上的第二磁吸件;压板组件压紧对位后的基片与掩膜板后,第一磁吸件压紧于压板组件,并与第二磁吸件相互吸合,以使被压紧后的基片与掩膜板贴合。本实用新型中的对位模块能够携带对位后的基片和掩膜板被单独移动和转运,且在转运过程中,对位模块能够保证对位后基片和掩膜板的位置精度。
搜索关键词: 一种 对位 模块 设备 薄膜 沉积 生产线
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