[实用新型]一种提高离子发射率的装置有效

专利信息
申请号: 202020793310.4 申请日: 2020-05-13
公开(公告)号: CN211829548U 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 马杰锋 申请(专利权)人: 慈溪市香格电器有限公司
主分类号: H01T23/00 分类号: H01T23/00;H05H1/24
代理公司: 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 代理人: 张合成
地址: 315300 浙江省宁波*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供了一种提高离子发射率的装置,涉及离子发射技术领域,解决了现有技术中的离子发射端存在发射量小的技术问题。该装置,包括发射部、用于安装所述发射部的固定件以及与所述固定件连接的导线,所述发射部包括连接板以及与所述连接板上端垂直连接的支架,所述支架上设置有多个圆环,且多个圆环处于同一水平面,所述圆环内设置有多个发射头。本实用新型通过设置发射部,发射部的支架上设置有包含多个发射头的圆环,使得离子发射端的发射量大大提高,从而整体提高了离子发射装置的发射率,结构简单、加工方便、成本低。
搜索关键词: 一种 提高 离子 发射 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于慈溪市香格电器有限公司,未经慈溪市香格电器有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202020793310.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top