[实用新型]一种化学研磨液氮压的供应装置有效
| 申请号： | 202020891753.7 | 申请日： | 2020-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN212762914U | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | 杨凯;杨利斌 | 申请（专利权）人： | 上海吉啸电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B57/02 | 分类号： | B24B57/02;F17C13/02;F17C1/00 |
| 代理公司： | 北京久维律师事务所 11582 | 代理人： | 邢江峰 |
| 地址： | 201400 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种化学研磨液氮压的供应装置，具体涉及半导体制造领域。该装置主要包括骨架、操控面板、排气装置、化学研磨液混合供应装置、液泵、研磨液氮压储存容器、压力监测表。骨架是由不锈钢方钢和聚苯烯的板材焊接及机械连接而成；排气装置是用于释放研磨液氮压储存容器的压力，起到稳压的作用；化学研磨液混合供应装置是用于生产现场研磨液配比及临时储存；液泵用于输送储存在化学研磨液混合供应装置的研磨液。本实用新型提供了一种通过压缩氮气产生动力的输送装置，解决了半导体加工时研磨液的供应流量输出不稳定的问题，使研磨液的供应变平稳、设备故障率低、维护简单。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 研磨 液氮 供应 装置 | ||
【主权项】：
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