[实用新型]一种可实现高灌注量精度的真空灌注室结构有效
| 申请号： | 202020901618.6 | 申请日： | 2020-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN212559397U | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 徐宏伟;张为;张宝森;郭猛 | 申请（专利权）人： | 西安理工大学 |
| 主分类号： | B67C3/20 | 分类号： | B67C3/20;G01G11/00 |
| 代理公司： | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人： | 涂秀清 |
| 地址： | 710048 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种可实现高灌注量精度的真空灌注室结构，包括真空灌注室本体，真空灌注室本体顶部安装灌注头，灌注头上设置气动针阀，真空灌注室本体内部安装电子天平，在真空灌注室本体内部两侧安装有可升降的内部传送带座，内部传送带座位于电子天平上方。本实用新型所提出的结构可以为实现高精度的灌注量，闭环控制提供必要的机械结构基础。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 实现 灌注 精度 真空 结构 | ||
【主权项】：
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