[实用新型]氡、钍射气子体采样器有效
申请号: | 202020923619.0 | 申请日: | 2020-05-27 |
公开(公告)号: | CN212206776U | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 曹磊;兰长林;吴鹏;王晓涛;党磊;方芳 | 申请(专利权)人: | 北京市化工职业病防治院;兰州大学;生态环境部核与辐射安全中心 |
主分类号: | G01N1/22 | 分类号: | G01N1/22 |
代理公司: | 北京绘聚高科知识产权代理事务所(普通合伙) 11832 | 代理人: | 陈卫 |
地址: | 100000 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本实用新型提供的一种氡、钍射气子体采样器,包括采样空间;沿着采样空间内自一端至另一端依次设置有沉积采样滤膜、采样扩散腔、铝过滤膜以及CR39固体核径迹探测元件;且铝过滤膜包括四个厚度不同的过滤膜,分别为第一通道T |
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搜索关键词: | 钍射气子体 采样 | ||
【主权项】:
暂无信息
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