[实用新型]氡、钍射气子体采样器有效

专利信息
申请号: 202020923619.0 申请日: 2020-05-27
公开(公告)号: CN212206776U 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 曹磊;兰长林;吴鹏;王晓涛;党磊;方芳 申请(专利权)人: 北京市化工职业病防治院;兰州大学;生态环境部核与辐射安全中心
主分类号: G01N1/22 分类号: G01N1/22
代理公司: 北京绘聚高科知识产权代理事务所(普通合伙) 11832 代理人: 陈卫
地址: 100000 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供的一种氡、钍射气子体采样器,包括采样空间;沿着采样空间内自一端至另一端依次设置有沉积采样滤膜、采样扩散腔、铝过滤膜以及CR39固体核径迹探测元件;且铝过滤膜包括四个厚度不同的过滤膜,分别为第一通道TI、第二通道TII、第三通道TIII和本底通道;第一通道TI、第二通道TII、第三通道TIII和本底通道用于对目标射气子体释放的α粒子能量进行不同程度的衰减;沉积采样滤膜用于沉积阻留目标射气子体上,以保障目标射气子体释放的α粒子能够穿过铝过滤膜经过衰减进入CR39固体核径迹探测元件上;CR39固体核径迹探测元件用于接收经过衰减后的目标射气子体释放的α粒子在其表面形成积极响应。
搜索关键词: 钍射气子体 采样
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京市化工职业病防治院;兰州大学;生态环境部核与辐射安全中心,未经北京市化工职业病防治院;兰州大学;生态环境部核与辐射安全中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202020923619.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top