[实用新型]一种叠层薄膜的生产装置有效
| 申请号： | 202020930659.8 | 申请日： | 2020-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN212533120U | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 张鹤;王亨 | 申请（专利权）人： | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/34;C23C16/40;H01L31/18 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人： | 万婧 |
| 地址： | 214028 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及机械设备领域，具体涉及一种叠层薄膜的生产装置，至少两种不同的沉积炉，每种沉积炉均包括炉体、射频电源、真空泵，炉体与射频电源和真空泵连接，炉体还设置有加热系统；当同一种沉积炉的数目不少于两个时，同种类沉积炉的进气气路共用同一公共气路和/或同一射频电源。采用本实用新型的装置生产薄膜，生产效率高、操作简单、生产成本低、成膜质量高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 生产 装置 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
