[实用新型]磁控溅射和离子束集成式镀膜设备有效
| 申请号： | 202020947870.0 | 申请日： | 2020-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN213142170U | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 钱政羽;钱涛;陈骞 | 申请（专利权）人： | 星弧涂层新材料科技(苏州)股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/46 |
| 代理公司： | 南京艾普利德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32297 | 代理人： | 陆明耀;顾祥安 |
| 地址： | 215122 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型揭示了磁控溅射和离子束集成式镀膜设备，包括真空室、工件台、偏压电源，所述真空室上设置有分布于工件台四周的磁控溅射靶及离子束源，所述离子束源均成对设置，每对离子束源分布于工件台相对的两侧。本方案将磁控溅射与离子束整合在一套设备中，相对布置的离子束源可以从工件的两侧提供离子源，从而可以有效避免离子束分布不均匀造成的不同距离的工件沉积质量不一的问题，保证了薄膜的一致性，改善沉积的稳定性。同时，使用离子束辅助磁控溅射，改变了非平衡磁控溅射工作压力范围，解决了溅射靶不能在较低的气压下稳定工作的弊端，使得其能在更高的真空度下稳定工作。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 离子束 集成 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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