[实用新型]一种可低温增速的真空渗碳表面处理装置有效

专利信息
申请号: 202020952793.8 申请日: 2020-05-30
公开(公告)号: CN212247173U 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 闫振中;董中令 申请(专利权)人: 郑州虹飞装备制造有限公司
主分类号: C23C8/20 分类号: C23C8/20
代理公司: 濮阳华凯知识产权代理事务所(普通合伙) 41136 代理人: 王传明
地址: 450100 *** 国省代码: 河南;41
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摘要: 实用新型公开了一种可低温增速的真空渗碳表面处理装置,包括渗碳工件箱,所述渗碳工件箱的侧面安装有氨气管,所述渗碳工件箱的顶部搭接有配重箱盖,所述配重箱盖的底面固定安装有插接衬架和密封搭接垫,且密封搭接垫位于插接衬架的外表面。通过扭转手持钮条,带动螺轴转动即可使其在内螺纹管的内部螺旋上升或螺旋下降移动,从而使螺纹轴顶端通过轴承带动工件置板上升或下降移动,工件置板上升或下降移动即带动滑动纵轴在滑管内滑动,从而即可使得工件置板在渗碳工件箱内的底部和顶部稳定的升降,达到了便于对渗碳加工容器内部工件放置结构进行调节的效果,更加便于放置体积较大较贴近容器内壁的工件,在应用起来更加灵活、更加方便。
搜索关键词: 一种 低温 增速 真空 渗碳 表面 处理 装置
【主权项】:
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