[实用新型]一种紫外纳米压印光刻自动脱模系统有效
| 申请号： | 202020987741.4 | 申请日： | 2020-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN213149470U | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 龚健文;胡松;于军胜;赵立新;杨勇;杜婧 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所;电子科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型提出一种紫外纳米压印光刻自动脱模系统，该系统用于紫外纳米压印光刻中实现样片与掩模的自动脱模。该系统以掩模架和掩模板为水平基准，利用升降驱动机构带动三点弹性支撑机构、承片台、基片上升，基片与基准掩模板接触调平后，气动及控制机构锁紧三点弹性支撑机构，同时升降驱动机构停止上升。然后在基片的下表面通正压，通过“气压压印+紫外固化”的形式进行图像转移，接着通过承片台上的三个升降气缸实现基片与掩模的自动脱模。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 紫外 纳米 压印 光刻 自动 脱模 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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