[实用新型]硅片校正机构有效

专利信息
申请号: 202021013605.1 申请日: 2020-06-05
公开(公告)号: CN213340324U 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 孙松 申请(专利权)人: 苏州迈为科技股份有限公司
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68;H01L21/67;H01L31/18
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 唐清凯
地址: 215200 江苏省苏州市吴江区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种硅片校正机构,包括:底座;两个推片件,均可滑动地设在所述底座上,两个所述推片件相对设置;运动件,可滑动地设在所述底座上,所述运动件上开设有两个运动滑轨,两个所述推片件分别滑动与两个所述运动滑轨滑动连接,所述运动件在第一方向上运动时,带动两个所述推片件朝相互靠近或相互远离;两个所述推片件用于在相互靠近时对硅片夹持校正;驱动装置,连接所述运动件,用于带动所述运动件在所述第一方向上运动。现有技术中需要两个气缸连接两个推片件,本实施方式中通过运动件的设置,使得单个气缸可以带动两个推片件相互靠近或相互远离,节省了硅片校正机构的成本。
搜索关键词: 硅片 校正 机构
【主权项】:
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