[实用新型]一种背面曝光机有效
| 申请号： | 202021111052.3 | 申请日： | 2020-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN212083890U | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 兰沈凯;催豪;吴杰明 | 申请（专利权）人： | 信利（仁寿）高端显示科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 刘春风 |
| 地址： | 620500 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种背面曝光机，包括曝光光源、机架、透明曝光平台和抽真空装置，其中机架包括水平架和支撑水平架的竖直架，所述水平架开设有开口，对应开口、所述透明曝光平台固定在水平架上，所述待曝光基板固定在透明曝光平台的上端面上，且所述待曝光基板的功能面背向所述透明曝光平台设置。实施本实用新型，通过将曝光平台设置为透明曝光平台，待曝光基板的功能面背向透明曝光平台设置，采用背面曝光的方式，可以改善正面曝光方式产生的基板底部曝光不充分进而产生Under cut现象。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 背面 曝光 | ||
【主权项】：
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