[实用新型]一种溅射工艺托盘装置有效
| 申请号： | 202021142102.4 | 申请日： | 2020-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN212894947U | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 钟立志;刘学明;孙金池;王传敏 | 申请（专利权）人： | 北京时代民芯科技有限公司;北京微电子技术研究所 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/50 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 陈鹏 |
| 地址： | 100076 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种溅射工艺托盘装置，包括托盘本体(1)、基片卡位凹槽(2)、基片悬空底板(3)、取片口(4)、定位卡槽(5)、基片放置位置(6)，采用基片卡位凹槽(2)及基片悬空底板(3)的设计，解决了以往托盘工艺过程中基片易滑出碎片、溅射工艺托盘存在加工过程中容易划伤基片背面的问题，同时利用取片口(4)使工艺操作更加便捷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溅射 工艺 托盘 装置 | ||
【主权项】：
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