[实用新型]一种生长在Si衬底上的紫外LED外延片有效
申请号: | 202021166603.6 | 申请日: | 2020-06-22 |
公开(公告)号: | CN212542464U | 公开(公告)日: | 2021-02-12 |
发明(设计)人: | 高芳亮 | 申请(专利权)人: | 宜兴曲荣光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/12 | 分类号: | H01L33/12;H01L33/20;H01L33/00 |
代理公司: | 广州专才专利代理事务所(普通合伙) 44679 | 代理人: | 曾嘉仪 |
地址: | 214203 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种生长在Si衬底上的紫外LED外延片,包括生长在Si衬底上的AlN缓冲层、GaN缓冲层、AlGaN缓冲层、非掺杂AlGaN层、n型掺杂AlGaN层、AlGaN多量子阱层、电子阻挡层和p型掺杂GaN薄膜;GaN缓冲层上形成有阵列排布的第一沟槽;AlGaN缓冲层的下部沉积在第一沟槽内,AlGaN缓冲层上形成有阵列排布的第二沟槽;第一沟槽和第二沟槽在垂直方向上不重叠;非掺杂AlGaN层的下部沉积在第二沟槽内。本实用新型生长在Si衬底上的紫外LED外延片缺陷密度低、结晶质量好,通过多次刻蚀,增加AlGaN的横向外延,有效抑制位错往上延伸,有生长高晶体质量紫外LED外延片的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 生长 si 衬底 紫外 led 外延 | ||
【主权项】:
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