[实用新型]一种生长在Si衬底上的紫外LED外延片有效

专利信息
申请号: 202021166603.6 申请日: 2020-06-22
公开(公告)号: CN212542464U 公开(公告)日: 2021-02-12
发明(设计)人: 高芳亮 申请(专利权)人: 宜兴曲荣光电科技有限公司
主分类号: H01L33/12 分类号: H01L33/12;H01L33/20;H01L33/00
代理公司: 广州专才专利代理事务所(普通合伙) 44679 代理人: 曾嘉仪
地址: 214203 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种生长在Si衬底上的紫外LED外延片,包括生长在Si衬底上的AlN缓冲层、GaN缓冲层、AlGaN缓冲层、非掺杂AlGaN层、n型掺杂AlGaN层、AlGaN多量子阱层、电子阻挡层和p型掺杂GaN薄膜;GaN缓冲层上形成有阵列排布的第一沟槽;AlGaN缓冲层的下部沉积在第一沟槽内,AlGaN缓冲层上形成有阵列排布的第二沟槽;第一沟槽和第二沟槽在垂直方向上不重叠;非掺杂AlGaN层的下部沉积在第二沟槽内。本实用新型生长在Si衬底上的紫外LED外延片缺陷密度低、结晶质量好,通过多次刻蚀,增加AlGaN的横向外延,有效抑制位错往上延伸,有生长高晶体质量紫外LED外延片的优点。
搜索关键词: 一种 生长 si 衬底 紫外 led 外延
【主权项】:
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