[实用新型]一种简易高洁净度操作台有效

专利信息
申请号: 202021232615.4 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN212975200U 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 汪良恩;杨华;朱京江;查扬 申请(专利权)人: 安徽安美半导体有限公司
主分类号: B01L9/02 分类号: B01L9/02;B01D46/00
代理公司: 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 代理人: 章胜强
地址: 247100 安徽省池州市经*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型属于半导体封装制造领域,具体涉及一种简易高洁净度操作台,包括洁净室,所述洁净室的室顶设有风机过滤机组,所述洁净室内设有点玻机梳料操作台、净风系统,所述净风系统包括风机、预过滤器、静压箱、过滤器、出风面,所述风机与所述预过滤器连接,所述预过滤器与所述静压箱连接,所述静压箱与所述过滤器连接,所述净风系统一端的外表面为出风面,所述净风系统的出风面面向点玻机梳料操作台的台面,本实用新型通过过在点玻机梳料操作台面增加净风系统,操作简单、低噪声、维护少、震动小、可调速,操作台面的洁净度从原10万级降低到现5万级,进一步减少了污染,提高了产品整体电性良率。
搜索关键词: 一种 简易 洁净 操作台
【主权项】:
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