[实用新型]一种金属铪双罐还原装置有效

专利信息
申请号: 202021233378.3 申请日: 2020-06-29
公开(公告)号: CN212864912U 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 傅心涛;董军明 申请(专利权)人: 江西晶晖锆铪新材料科技有限公司
主分类号: C22B34/14 分类号: C22B34/14;C22B26/22
代理公司: 苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司 32261 代理人: 范礼龙
地址: 341800 *** 国省代码: 江西;36
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摘要: 实用新型涉及有色金属冶炼技术领域,尤其涉及一种金属铪双罐还原装置,包含电阻炉,所述电阻炉上分别固定有还原反应器和升华反应器,所述还原反应器上方固定有还原炉盖,所述还原炉盖上固定有抽空管,所述升华反应器上方固定有升华炉盖,所述升华炉盖上固定有带阀门的排气管,所述升华炉盖通过管道与前述还原炉盖相连,所述管道两端均固定有阀门,所述管道一端与升华反应器内部相连,所述管道另一端与还原反应器内部的出气斗相连,所述出气斗底部密封,所述出气斗底部还交错固定有与管道内部通道相连的出气管Ⅰ和出气管Ⅱ,所述管道周侧还固定有加热层,所述还原反应器内部还固定有反应坩埚。可以有效加速HfCl4与镁的反应速度。
搜索关键词: 一种 金属 铪双罐 还原 装置
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