[实用新型]一种气流体约束水射流发生装置有效

专利信息
申请号: 202021242716.X 申请日: 2020-06-30
公开(公告)号: CN212286359U 公开(公告)日: 2021-01-05
发明(设计)人: 乔红超;曹治赫;赵吉宾;张旖诺;于永飞 申请(专利权)人: 中国科学院沈阳自动化研究所
主分类号: B23K26/70 分类号: B23K26/70;B23K26/146
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 汪海
地址: 110016 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型涉及激光加工领域,具体地说是一种气流体约束水射流发生装置,包括聚焦透镜、座体、激光窗和水喷嘴,聚焦透镜设于座体的激光入射侧,激光窗和水喷嘴沿着激光传输方向依次设于所述座体中,且所述激光窗和水喷嘴之间的座体内设有高压水腔,在所述水喷嘴远离激光窗一侧的座体内设有贯通的气腔,且所述气腔靠近所述水喷嘴的一端设有进气道,激光光束经聚焦透镜聚焦射入座体中且焦点位于水喷嘴处。本实用新型利用气流体约束水射流,能够有效减少水射流表层的空气密度,降低了水射流边缘与空气之间的卷吸作用,且气相流体对水光纤施加径向的约束力,提高了水射流的稳定性。
搜索关键词: 一种 流体 约束 水射流 发生 装置
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