[实用新型]一种用于MPCVD的气体抽空结构

摘要

本实用新型涉及气体抽空结构技术领域，具体是一种用于MPCVD的气体抽空结构，用于解决现有技术中反应器高温气体不能及时流出，使反应器内的温度升高，以及工艺气体不能有效的流过钼托盘，从而降低了金刚石膜及单晶金刚石的生长效率的问题。本实用新型包括紫铜托盘和钼托盘，所述钼托盘安装在紫铜托盘的顶面，所述钼托盘的边缘均匀的开有多个通孔，所述紫铜托盘内安装有芯管，所述紫铜托盘内还开有连通芯管和通孔的气体通道。本实用新型通过通孔降低经过钼托盘的热通量，使钼托盘表面的温度场更均匀；同时通孔形成的气体通路能够将工艺气体从钼托盘的边缘有效排出，改善了反应器内部的流场分布，从而提高金刚石膜及单晶金刚石的生长效率。