[实用新型]一种用于提高电镀膜层均匀性的加工装置有效
申请号: | 202021325954.7 | 申请日: | 2020-07-08 |
公开(公告)号: | CN213680938U | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | 崔立;宋振坤;白雪玉;董东峰;崔同春 | 申请(专利权)人: | 北京实验工厂有限责任公司 |
主分类号: | C25D17/00 | 分类号: | C25D17/00;C25D17/12;C25D7/00;C25D5/02 |
代理公司: | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人: | 胡健男 |
地址: | 100038 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型一种用于提高电镀膜层均匀性的加工装置,包括:辅助阳极(1)、绝缘垫片(2)、电极固定架(3)、绝缘套(4)、电极杆(5);电极固定架(3)为中空结构,绝缘垫片(2)安装在电极固定架(3)的中空部分的盲孔部分内,电极杆(5)的一端穿过电极固定架(3)的中空部分中通孔部分和绝缘垫片(2),从电极固定架(3)中伸出;电极杆(5)的一端位于工件内;辅助阳极(1)与电极杆(5)靠近绝缘垫片(2)的一端连接;电极固定架(3)外侧与工件上带有的螺纹配合固定;电极固定架(3)上设有对称的两个螺纹孔,电极固定架(3)上设有腰形孔,提高电镀膜层均匀性,特别适用于含有盲孔工件的电镀加工。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 提高 镀膜 均匀 加工 装置 | ||
【主权项】:
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