[实用新型]一种EVA褶皱抚平装置有效
申请号: | 202021430423.4 | 申请日: | 2020-07-20 |
公开(公告)号: | CN212625616U | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 李志远;赵佳;张超 | 申请(专利权)人: | 晶澳(邢台)太阳能有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/048 |
代理公司: | 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 | 代理人: | 杨光 |
地址: | 054000 河北省*** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种EVA褶皱抚平装置,属于EVA生产加工领域,解决了EVA材料褶皱的问题。本实用新型通过安装在滚轮轴上的抚平辊对EVA褶皱进行挤压抚平,抚平辊和滚轮轴之间通过轴承安装,使抚平辊能够相对于EVA滚动,缓冲机构分别安装在滚轮轴两端,缓冲机构包括弹簧和活动轴,弹簧套设于活动轴,活动轴活动安装在固定板上,固定板通过螺钉安装在组件生产线的立柱上。使用时,抚平辊相对于EVA滚动,且缓冲机构能够缓冲抚平辊和EVA之间的相互作用。本实用新型实现了对EVA褶皱的抚平,同时能够避免组件的EVA和玻璃发生相对位移。 | ||
搜索关键词: | 一种 eva 褶皱 抚平 装置 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的