[实用新型]一种连续线偏压装置有效
申请号: | 202021479144.7 | 申请日: | 2020-07-24 |
公开(公告)号: | CN213013072U | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 吴煜明 | 申请(专利权)人: | 柏霆(苏州)光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及真空溅镀设备领域,尤其涉及一种连续线偏压装置,包括:溅镀腔体、滑触集电器、传送滚轮、承载台车和磁控靶;所述滑触集电器和传送滚轮均设置于溅镀腔体内部,所述溅镀腔体内跨接安装有若干传动轴,传送滚轮安装在传动轴的两端;所述承载台车搭接在传送滚轮上;采用本实用新型,设置有磁控靶电浆处理会在待处理工件表面形成亲和官能基作为镀膜沉积辅助,不用增设其他设备,实现结构的优化;电浆气团中氩气离子收到滑触集电器与承载台车的作用,可以使得沉积膜再次溅镀。偏压溅镀,使得沉积膜层更加致密。 | ||
搜索关键词: | 一种 连续 偏压 装置 | ||
【主权项】:
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