[实用新型]一种磁控溅射设备的溅射靶有效

专利信息
申请号: 202021512773.5 申请日: 2020-07-28
公开(公告)号: CN212713736U 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 李聪;潘振伟;曲佳佳;陈玲;李靖 申请(专利权)人: 绍兴精功装备检测科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 绍兴普华联合专利代理事务所(普通合伙) 33274 代理人: 丁建清
地址: 312030 浙江省绍兴*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种磁控溅射设备的溅射靶,封板前面固定有靶材背板,封板与靶材背板之间形成一个冷却腔,靶材背板包括靶材腔体,靶材背板中间向靶材腔体内部延伸设有多条凸筋,靶材腔体内部设有靶材,靶材表面靠近靶材背板的一侧设有多条位于相邻两条凸筋之间的竖筋,靶材表面远离靶材背板的一侧还固定有铜板,封板设有两个贯穿其前后表面的第一通孔,封板下部固定有与第一通孔一一对应的两个管材,管材外部套设有一端封闭的圆柱形转接管,转接管环形侧面上设有连接外部冷却装置的水管接头。本实用新型设计多重密封结构,防止冷却水渗漏,冷却部位形状为锯齿状增加了表面积,提高了散热效率。
搜索关键词: 一种 磁控溅射 设备 溅射
【主权项】:
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