[实用新型]一种超高精度晶片厚度检测机构有效
申请号: | 202021519693.2 | 申请日: | 2020-07-28 |
公开(公告)号: | CN213208924U | 公开(公告)日: | 2021-05-14 |
发明(设计)人: | 霍建忠;朱万杰 | 申请(专利权)人: | 苏州思达优科技有限公司 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215000 江苏省苏州市苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种超高精度晶片厚度检测机构,包括台面,所述台面的上表面一侧设置有检测器,所述检测器的上方设置支架,所述支架下设置红外检测单元,所述检测器设置电线连接所述红外检测单元,所述红外检测单元的下方设置有吸盘托台,所述吸盘托台的高度可以调节,所述台面的上表面一侧设置有抽真空机,所述抽真空机设置气管连通所述吸盘托台,所述台面的下方设置有支撑腿。可以对一定范围厚度的晶片进行高精度的厚度检测,并且操作简单,方便快捷。 | ||
搜索关键词: | 一种 超高 精度 晶片 厚度 检测 机构 | ||
【主权项】:
暂无信息
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