[实用新型]切趾长周期光纤光栅刻写装置有效
申请号: | 202021525350.7 | 申请日: | 2020-07-28 |
公开(公告)号: | CN212872967U | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
发明(设计)人: | 王泽锋;胡琪浩;王蒙;李宏业;田鑫;赵晓帆;饶斌裕;奚小明;陈子伦;潘志勇;王小林;许晓军;陈金宝 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科技大学 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02 |
代理公司: | 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 | 代理人: | 周达 |
地址: | 410073 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种切趾长周期光纤光栅刻写装置,包括二氧化碳激光器、扩束透镜组、扫描振镜、聚焦场镜以及光纤操作移动平台,二氧化碳激光器输出的激光的传输路径上依次设置有扩束透镜组、扫描振镜以及聚焦场镜,聚焦场镜的正下方设置有光纤操作移动平台,所述待刻写切趾长周期光纤光栅的光纤安装在光纤操作移动平台,从聚焦场镜出射的激光能够入射到安装在光纤操作移动平台上的光纤上实现切趾长周期光纤光栅刻写。本实用新型能够刻写切趾长周期光纤光栅,采用本装置刻写切趾长周期光纤光栅能够消除由于逐点曝光刻写法导致的折射率突变。 | ||
搜索关键词: | 切趾长 周期 光纤 光栅 刻写 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军国防科技大学,未经中国人民解放军国防科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202021525350.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。