[实用新型]大容量半导体切割液混合供液装置有效

专利信息
申请号: 202021533858.1 申请日: 2020-07-29
公开(公告)号: CN213829770U 公开(公告)日: 2021-07-30
发明(设计)人: 霍建忠;朱万杰 申请(专利权)人: 苏州思达优科技有限公司
主分类号: B28D5/00 分类号: B28D5/00;B28D7/00;B28D7/02;H01L21/67
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州市苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了大容量半导体切割液混合供液装置,包括托板,所述托板的上方安装有箱体,所述箱体包括纯水腔体、切割液腔体、混合腔体和成液腔体,所述纯水腔体开设有纯水口,所述切割液腔体开设有切割液口,所述成液腔体开设有成液口,所述成液腔体的底部设置有供液管,所述供液管连接成液腔体底部内部的供液排水阀,所述纯水腔体的底部设置连通管连接混合腔体,所述切割液腔体的底部设置连通管连接混合腔体,所述连通管上均设置有电磁控制阀,所述混合腔体的底部外表面设置有混合排水阀,所述混合排水阀设置混合连接管连接混合腔体的上部,所述混合腔体通过设置供液机构连通所述成液腔体。通过四个腔体控制液体的混合和输送,过程互不干扰。
搜索关键词: 容量 半导体 切割 混合 装置
【主权项】:
暂无信息
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