[实用新型]一种微波等离子体化学气相沉积装置有效

专利信息
申请号: 202021593756.9 申请日: 2020-08-04
公开(公告)号: CN212335281U 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 任泽阳;张金风;张进成;苏凯;何琦;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: C23C16/27 分类号: C23C16/27;C23C16/511;C23C16/458
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 刘长春
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型涉及一种微波等离子体化学气相沉积装置,包括:波导装置,波导装置包括微波天线,微波天线包括进气管、水冷结构、天线下盘和分气盘,反应腔,设置在波导装置下方,与波导装置连接,天线下盘位于反应腔内部;旋转升降冷却机构,旋转升降冷却机构包括主轴、升降机构、旋转机构和冷却机构,其中,主轴顶端与反应腔内设置的生长平台连接;升降机构、旋转机构和冷却机构均与主轴连接,以驱动主轴带动生长平台在反应腔内做直线运动和旋转运动的同时进行水冷散热。本实用新型的微波等离子体化学气相沉积装置,可以为化学气相沉积工艺提供稳定的生长平台,避免了金刚石膜出现生长不均匀的现象。
搜索关键词: 一种 微波 等离子体 化学 沉积 装置
【主权项】:
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