[实用新型]进气装置及半导体设备有效
申请号: | 202021641439.X | 申请日: | 2020-08-10 |
公开(公告)号: | CN213146092U | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 王春;徐刚;郑波;马振国 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | F17D1/02 | 分类号: | F17D1/02;H01L21/67;F17D3/01 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;王婷 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种用于半导体设备的进气装置及半导体设备,其中,进气装置包括至少一条用于向半导体设备的工艺腔室内输送稀释气体和反应气体的工艺气体管路,该进气装置还包括吹扫气体管路,吹扫气体管路与工艺腔室连通,用于向工艺腔室内输送吹扫气体。本实用新型提供的半导体设备的进气装置及半导体设备,能够提高反应气体的排气效率,提高半导体工艺结束的及时性,从而能够降低过刻蚀的概率,提高工艺效果。 | ||
搜索关键词: | 装置 半导体设备 | ||
【主权项】:
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