[实用新型]一种干法刻蚀机台有效
| 申请号： | 202021646878.X | 申请日： | 2020-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN212695120U | 公开（公告）日： | 2021-03-12 |
| 发明（设计）人： | 王宜 | 申请（专利权）人： | 江苏斯米克电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 南京常青藤知识产权代理有限公司 32286 | 代理人： | 史慧敏 |
| 地址： | 214000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种干法刻蚀机台，包括用于对晶圆进行干法刻蚀的反应腔，反应腔中设有用于干法刻蚀的刻蚀器，刻蚀器固定在反应腔的顶板上；反应腔底部设有用于固定晶圆的可升降固定座，固定座上均布设有吸盘，固定座下方设有活塞，固定座下方还设有用于控制活塞的电动缸，活塞和电动缸底部固定在用于控制固定座高度的第一电动缸上，第一电动缸固定在反应腔的底板上；反应腔中还设有至少一根与外部真空泵连通的抽气管和至少一根用于充入惰性气体的充气管，至少一根抽气管的管口和至少一根充气管的管口与刻蚀器底端高度相同。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 机台 | ||
【主权项】：
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