[实用新型]一种用于制备氟钨络合物过程中控制氧逸度的反应装置

摘要

本实用新型公开了一种用于制备氟钨络合物过程中控制氧逸度的反应装置，它包括钛质高压釜，反应管置于所述钛质高压釜内部，所述反应管用于盛装含氟F溶液，所述钛质高压釜和所述反应管之间的间隙为1‑2 mm，该间隙用于放置蒸馏水，所述反应管设置有盖子，所述盖子上设置有凹槽，所述凹槽用于承装二氧化钼和三氧化钼，所述凹槽的出口用丝状物封堵，所述反应管内放置有试管，所述试管用于盛装三氧化钨，所述试管的出口用丝状物封堵，解决了现有技术研究氟钨络合物时氧逸度无法控制的问题，同时实现氧逸度缓冲剂和实验溶液在空间上的分离，避免污染。