[实用新型]一种适用于不同尺寸硅片的流体抛光工件固定装置有效
申请号: | 202021756996.6 | 申请日: | 2020-08-20 |
公开(公告)号: | CN213106312U | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 韦伟;王红霞;马艳娜;邢晨;张鹏亮 | 申请(专利权)人: | 浙江水利水电学院 |
主分类号: | B24B41/06 | 分类号: | B24B41/06;B24B31/12 |
代理公司: | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人: | 吴秉中 |
地址: | 310000 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种适用于不同尺寸硅片的流体抛光工件固定装置,包括中心吸附圈、第一吸附环、第二吸附环、固定环、负压腔体、中心吸附圈密封圈、第一吸附环密封圈、第二吸附环密封圈、负压腔体密封圈、导向圆柱密封圈、内六角螺钉、定位螺钉、吸附孔、螺纹通孔和沉头通孔,中心吸附圈的外圆与第一吸附环的内圆配合,第一吸附环的外圆与第二吸附环内圆配合,第二吸附环的外圆与固定环的内圆配合。本实用新型可以在固定不同厚度的工件时,确保工件上表面与固定环上表面高度保持一致;可以吸附6英寸、8英寸、12英寸等常用直径的硅片,能够确保与工件底部接触的吸附区域高度保持一致,可以快速调整各个吸附区域的高度,无需每个环单独调整。 | ||
搜索关键词: | 一种 适用于 不同 尺寸 硅片 流体 抛光 工件 固定 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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