[实用新型]一种多方位单晶硅单面自动抛光机有效

专利信息
申请号: 202021757110.X 申请日: 2020-08-20
公开(公告)号: CN213106229U 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 陈峰 申请(专利权)人: 浙江众晶电子有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B41/00;B24B41/06;B24B41/02
代理公司: 温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙) 33390 代理人: 钱磊
地址: 324302 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种多方位单晶硅单面自动抛光机,包括底座、翻转结构、单晶硅主体、支撑板、抛光轮、紧固结构,所述底座的上端固定安装有翻转结构,所述翻转结构内侧的上端卡接有单晶硅主体,所述底座的一端固定安装有支撑板,所述支撑板的底端固定安装有抛光轮。本实用新型,通过转动杆带动连接杆移动,使得连接杆通过固定杆带动第一紧固块进行旋转,从而使得第一紧固块带动单晶硅主体进行翻转,从而使得在对另一面进行抛光时,不需要重新定位,通过滑块带动活动杆移动,使得活动杆通过带动第二紧固块进行移动,从而使得第二紧固块卡接在单晶硅主体的表面,继而使得在进行抛光时可根据单晶硅主体的大小进行调节。
搜索关键词: 一种 多方位 单晶硅 单面 自动 抛光机
【主权项】:
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