[实用新型]一种多方位单晶硅单面自动抛光机有效
申请号: | 202021757110.X | 申请日: | 2020-08-20 |
公开(公告)号: | CN213106229U | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 陈峰 | 申请(专利权)人: | 浙江众晶电子有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B41/00;B24B41/06;B24B41/02 |
代理公司: | 温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙) 33390 | 代理人: | 钱磊 |
地址: | 324302 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种多方位单晶硅单面自动抛光机,包括底座、翻转结构、单晶硅主体、支撑板、抛光轮、紧固结构,所述底座的上端固定安装有翻转结构,所述翻转结构内侧的上端卡接有单晶硅主体,所述底座的一端固定安装有支撑板,所述支撑板的底端固定安装有抛光轮。本实用新型,通过转动杆带动连接杆移动,使得连接杆通过固定杆带动第一紧固块进行旋转,从而使得第一紧固块带动单晶硅主体进行翻转,从而使得在对另一面进行抛光时,不需要重新定位,通过滑块带动活动杆移动,使得活动杆通过带动第二紧固块进行移动,从而使得第二紧固块卡接在单晶硅主体的表面,继而使得在进行抛光时可根据单晶硅主体的大小进行调节。 | ||
搜索关键词: | 一种 多方位 单晶硅 单面 自动 抛光机 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江众晶电子有限公司,未经浙江众晶电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202021757110.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种工件加热流转装置
- 下一篇:一种智能声纹考勤终端