[实用新型]一种IGBT芯片版图金属层有效

专利信息
申请号: 202021820854.1 申请日: 2020-08-27
公开(公告)号: CN212659541U 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 郭乔;林泳浩;李伟聪 申请(专利权)人: 珠海市浩辰半导体有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/739
代理公司: 深圳市中科创为专利代理有限公司 44384 代理人: 彭西洋;冯建华
地址: 519031 广东省珠海市横琴新*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开一种IGBT芯片版图金属层,芯片版图包括元胞区、终端区、栅极压焊点、发射极压焊点;所述终端区位于元胞区的外围,栅极压焊点、发射极压焊点位于元胞区内部;其特征在于,版图金属层包括发射极金属及栅极金属;所述发射极金属包括位于元胞区内部的第一发射极金属,以及位于元胞区与终端区连接过渡区的第二发射极金属;所述第二发射极金属在过渡区环绕构成等位环场板,并与第一发射极金属电连接;所述栅极金属环绕在第一发射极金属与第二发射极金属之间,并留有第一发射极金属与第二发射极金属电连接的通道。本实用新型能够满足发射极金属和栅极金属的设计要求,增加电流流通路径,改善电流均匀性,提高关断能力。
搜索关键词: 一种 igbt 芯片 版图 金属
【主权项】:
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