[实用新型]基于环状磁约束技术的击穿光谱检测系统有效

专利信息
申请号: 202021838913.8 申请日: 2020-08-28
公开(公告)号: CN212341016U 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 李红莲;谢红杰;张仕钊;李小亭;方立德 申请(专利权)人: 河北大学
主分类号: G01N21/71 分类号: G01N21/71
代理公司: 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 代理人: 张莉静
地址: 071002 *** 国省代码: 河北;13
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摘要: 实用新型提供了一种基于环状磁约束技术的击穿光谱检测系统,所述系统包括激光发射机构、环状磁场机构、检测机构、信号采集机构和计算机;所述检测机构包括用于放置被测样品的置物台,所述环状磁场机构包括环绕所述置物台设置的N极大磁铁、S极大磁铁、第一N极小磁铁、第二N极小磁铁、第一S极小磁铁和第二S极小磁铁;本实用新型将激光诱导击穿光谱技术与环状磁场约束组合测量具有更高的灵敏度和准确度,本实用新型采用的是环状磁场,为激光诱导击穿光谱技术的谱线增强方法提供了新的思路,在该领域具有广阔的应用前景。
搜索关键词: 基于 环状 约束 技术 击穿 光谱 检测 系统
【主权项】:
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