[实用新型]位移测量装置、掩模台测量系统和光刻机有效
| 申请号： | 202021866735.X | 申请日： | 2020-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN212806922U | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 吴萍 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种位移测量装置、掩模台测量系统和光刻机，位移测量装置包括光源、第一方向位移测量组件、第二方向位移测量组件、光探测模块和光信号处理模块，第一方向与第二方向相互垂直；光源用于发出第一测量光束和第二测量光束；第一方向位移测量组件包括相对设置的光栅和读头；读头包括两个对称设置的回射器；第二方向位移测量组件包括相对设置的干涉仪和反射元件；光探测模块用于探测第一方向位移干涉信号和第二方向位移干涉信号；光信号处理模块用于计算第一方向位移以及第二方向位移。本实用新型通过采用一维光栅与反射元件的组合，可以实现二维位移量的测量，不仅成本低、性能高，而且具有宽角度适应性，使用更加便捷。 | ||
| 搜索关键词： | 位移 测量 装置 掩模台 系统 光刻 | ||
【主权项】：
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