[实用新型]一种具有真空检测装置的光刻机有效

专利信息
申请号: 202021870538.5 申请日: 2020-08-31
公开(公告)号: CN213042110U 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 周铁平 申请(专利权)人: 周铁平
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710000 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型公开了一种具有真空检测装置的光刻机,包括光刻机本体,所述光刻机本体内壁底部的右侧活动安装有传动带,所述传动带的左侧设置有真空检测机构,所述真空检测机构包括密封检测罩、伸缩管、连接管和真空泵,所述密封检测罩设置在光刻机本体内壁底部的左侧,所述伸缩管连通在密封检测罩顶部的左侧。本实用新型通过设置真空检测机构,对密封罩进行抽真空,再通过检测板对原料进行检测,从而达到了可以进行真空检测的效果,解决了现有的光刻机不能进行真空检测的问题,该具有真空检测装置的光刻机,具备可以进行真空检测的优点,原料在光刻机加工后不需要使用者将原料拿到真空检测装置内部进行检测。
搜索关键词: 一种 具有 真空 检测 装置 光刻
【主权项】:
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