[实用新型]一种高强辐照环境下的简便XY两轴扫描结构有效
| 申请号： | 202021902910.6 | 申请日： | 2020-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN212900605U | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 吕希光 | 申请（专利权）人： | 安庆恒孚测控技术有限公司 |
| 主分类号： | F16M11/04 | 分类号： | F16M11/04;F16M11/18;G01N17/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 246000 安徽省安庆*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型属于实验设备技术领域，具体公开了一种高强辐照环境下的简便XY两轴扫描结构，包括两个对称设置的X轴滑轨和一个Y轴滑轨，所述Y轴滑轨通过第一滑块安装在两个X轴滑轨上，所述Y轴滑轨中设置有第二滑块，所述Y轴滑轨上设置有X轴移动机构和Y轴移动机构，所述X轴移动机构包括第一张力调节弹簧、第一定滑轮、第一连接索和第一调节装置，所述Y轴移动机构包括第二张力调节弹簧、第二定滑轮、第二连接索、走线机构和第二调节装置。本实用新型能够在实验室外面即可方便调整第二滑块的位置，从而移动实验物品到达不同的测试点，实用性强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高强 辐照 环境 简便 xy 扫描 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
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