[实用新型]一种排放装置和半导体加工设备有效

专利信息
申请号: 202021909579.0 申请日: 2020-09-03
公开(公告)号: CN214051546U 公开(公告)日: 2021-08-27
发明(设计)人: 高君;邵克坚 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: B01J4/00 分类号: B01J4/00;H01L21/67
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李晓光
地址: 430074 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型提供了一种排放装置和半导体加工设备,该排放装置包括:涡轮泵和与所述涡轮泵排放口连接的排放管道;所述排放管道中设置有排放物浓度处理装置,用于降低所述排放物的浓度。也就是说,该排放装置可以稀释排放物的排放浓度,避免排放物在排放管道等装置中积聚,进而提高排放效率,使清理周期变长,极大程度的提高了半导体加工设备的产能。
搜索关键词: 一种 排放 装置 半导体 加工 设备
【主权项】:
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