[实用新型]一种可调节纳米晶带材用打磨抛光装置有效
| 申请号： | 202021974346.9 | 申请日： | 2020-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN212947118U | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 杨水华;邱菊 | 申请（专利权）人： | 南通华禄新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B27/00 | 分类号： | B24B27/00;B24B41/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 226300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种可调节纳米晶带材用打磨抛光装置，包括支撑套座、压缩弹簧、支撑板、下导向轮、伸缩座、左可调杆以及左定位套座，支撑板前侧套装有下导向轮，操作台上端面中间位置安装有支撑套座，支撑套座内部上侧卡套有伸缩座，伸缩座下端面左右两侧对称卡装有压缩弹簧，支撑延伸板上端面左侧安装有左定位套座，左定位套座内部中间位置穿插有左可调杆，该设计解决了原有打磨抛光装置不方便进行上下调节，并且导向性欠佳的问题，本实用新型结构合理，具备上下可调能力，并且导向打磨抛光效果好，实用性强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调节 纳米 晶带材用 打磨 抛光 装置 | ||
【主权项】：
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